2016年9月28日上午，受我院陈实教授邀请，佐治亚理工大学（Georgia Institute of Technology）电子和纳米技术学院技术负责人杨业元博士在南五楼612会议室做了题为“超薄膜生长技术（Thin Film Growth Techniques）”的学术讲座，讲座中杨博士主要和与会师生讨论了半导体工艺常用的薄膜制备方法：PVD和ALD的优缺点。
学术讲座中，杨博士以诙谐幽默的授课方式，向我们展示了薄膜在微电子器件，MEMS以及纳米技术领域的应用，以及他们课题组近些年来采用各种方法制备的薄膜，如PVD、CVD、ALD等，并对各种方法的优缺点进行了对比。讲座吸引了学院从事磁传感器、薄膜材料、高温材料等相关研究领域的师生的广泛参与，讲座结束后，与会师生和杨博士进行了深入的交流，就讲座类容以及自身平时科研遇到的问题向博士进行了咨询，博士也纷纷给予解答，现场学术氛围浓厚而活跃，由于学生的热情，博士不得不下午在西一楼临时增加了一场讨论会，体现了我院学生强烈的求知欲。杨博士的到来为我院相关研究领域的发展提供了非常有价值的学术指导，相信本次学术交流能够进一步推动我院相关领域的蓬勃发展！
杨业元，博士，美国佐治亚理工学院电子和纳米技术学院主要技术负责人，从事微型化制造和纳米技术方面的研究开发工作。具有院校，研究所和工业界多领域的工作经历，在半导体材料制造及元器件制备方面积累了大量实际工作经验和丰富的理论知识。所在的电子和纳米技术学院的超净室（Clean room）有二百余台，主要工作包括新材料及工艺开发，与工业界合作项目执行运作，人员培训，设备维护等。
