为发挥教育科技人才三位一体优势，加强产教融合人才培养，教学周13-14周期间，光电信息学院与未来技术学院联合ASML公司开设“集成电路光刻技术基础”课程。多位ASML技术专家通过系列讲座的形式，介绍ASML全景光刻技术概况。来自光电信息学院、未来技术学院、机械学院、材料学院等院系的60余名研究生和本科同学参加了此次课程。ASML公司Principle Scientist高伟民博士、ASML全球培训中心技术培训专家秦晓琼博士、ASML武汉地区客户服务经理熊泽军等ASML公司成员参与。光电信息学院李政言教授、院长助理张诚教授，学工组长张虎博士到场参加。
在第一周的课程中，高伟民率先从芯片的发展历程、光刻机的发展历程以及芯片工艺技术路径三个维度对集成电路及光刻机的发展进行了全面而深入的介绍。韩沛文系统阐述了光刻系统架构，并对产量、套刻精度等关键指标及设计要求进行了详细说明，同时深入探讨了浸润式光刻与像差控制；秦晓琼着重讲解了光源调控与设计对曝光质量的重要影响；翟文桥深度剖析了光刻中边缘放置误差的分类与成因，还重点介绍了ASML YieldStar光学量测仪器的工作原理。
第二周的课程中，ASML的工程师们继续带来精彩内容。周昂从理论层面深入分析了光刻系统极限分辨率与瑞利判据，并且对成像质量参数如何影响曝光效果展开了探讨；李智钦全面介绍了计算光刻，还提及了机器学习在其中的应用；饶江宇介绍了扫描电子显微镜的发展历程、仪器架构以及二次电子和背散射电子成像原理对比；王鸿从电子束的检测与量测两大方面展开，为整个系列讲座画上了圆满的句号。
在此次课程中，我院学生积极参与，反响热烈。同学们纷纷表示在课程中收获颇丰，专业技能和行业认知得到了显著提升，并热切期盼学院未来能举办更多的校企联合高质量活动。课程责任教师、光电信息学院李政言教授表示，本次课程引入顶尖企业的一线专家，拉近了与产业界的距离，实现了本科与研究生课程的衔接，为教学科技人才培养提供了新的融合模式。光电博士2401班的黄烨同学通过课程了解了光刻机技术，认为与自身研究领域紧密相关，并感到科研责任重大。未来技术学院机械专业本科生温璞同学认为课程打破了理论偏重，对半导体领域学生有引领作用。光学与电子信息学院易力恒同学则表示课程加深了对光刻产业的了解，坚定了科研决心。
学院以培养前沿人才为核心目标，积极探索个性化、创新化、卓越化的人才培养新路径。学院将继续深化与企业的合作，不断优化课程体系，通过产教融合的创新模式，培养更多具有扎实理论基础和丰富实践经验的创新人才。
