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SEM、EDS设备简介

作者: 时间:2018-02-26 点击数:

SEM、EDS照片

设备名称

扫描电镜、能谱测试系统

设备简介

对半导体、金属、绝缘体薄膜及微纳米结构器件样品进行高分辨、大面积、快速、自动化成像;对磁性样品进行高品质成像;对样品进行成分分析。

技术参数

1、发射源:热场发射电子枪

2、物镜系统:电磁/静电式物镜系统,物镜极靴无漏磁设计

3、分辨率: 0.8 nm @ 15kV,1.4 nm @ 1kV (非减速模式)

4、加速电压范围:20V-30kV,连续可调,无需更换模式

5、放大倍数范围:12X-2,000,000X,连续可调,无需更换模式

6、探针电流:范围 3pA-20nA;稳定度优于 0.2 %/h

7、减震方式:气垫式自动水平系统

8、镜筒设计要满足铁磁等磁性材料的近距离高分辨观测,以及EBSD不更换模式的使用.

9、全无油真空系统

1)无油干泵 + 涡轮分子泵 + 离子泵。

2)样品室极限真空度:≤2×10-4Pa。

10、样品室及样品台

1)样品室尺寸:内部最大直径330mm,高度最大270mm。

2)配备四个探测器:独立的镜筒内环形二次电子探测器,样品室内二次电子探测器,可伸缩式五象限高灵敏度背散射电子探测器,样品室内红外CCD摄像机。

3)样品台:类型:5轴全自动马达驱动样品台,安装:抽屉式,控制:双操纵杆控制盒。

4)样品台马达移动范围(不小于):130mm(X方向),130mm(Y方向),50mm(Z方向),-3 - 70°(倾斜),360°(旋转)。

5)能谱仪工作条件:工作距离8.5 mm,X射线出射角35°。

6)物镜光栏:数量7孔,更换与对准方式为电磁式。

11、图像处理系统

1)配套计算机系统(不低于):CPU Intel 3.1 GHz Quad Core Processor,RAM 4 Gb,硬盘 1TB,光盘刻录机,24″TFT显示屏,键盘,鼠标,USB接口。

2)显示图像分辨率:1024×768像素。

3)最大存储图像分辨率:32768×24576像素。

4)存储图象格式:TIFF、BMP与JPEG。

5)降噪方式:像素平均、帧/行平均、帧/行叠加。

12、X射线能谱仪

探测器:类型:硅漂探测器,电制冷;活性区面积:20mm2;分辨率:优于127eV;探测元素范围:Be(4)到Pu(94)

软件系统:分析导航器,全中文软件操作界面,信息管理系统,实验报告系统,元素面分布分析软件,电子束任意定位和分析软件,定性、定量分析软件。

13、离子溅射仪

1)工作腔室尺寸:150mm(直径)×65mm(高)。

2)真空度:≤1×10-2mbar。

3)溅射电流含:10,20,30,40mA可调。

4)沉积速率:0~25 nm/min。

    5)溅射时间:0~300s 可调,白金靶。

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